Introdução detalhada de bateria solar de alta tensão de filme fino de polissilício

Como a bateria de película fina de silício policristalino utiliza muito menos silício do que o silício monocristalino, ela não apresenta problemas de degradação de eficiência.E é possível preparar em materiais de substrato baratos, seu custo é muito menor que o das células de silício monocristalino e sua eficiência é maior que a das células de filme fino de silício amorfo.Portanto, as baterias de película fina de polissilício ocuparão em breve uma posição dominante no bateria reserva solar mercado.A seguir, vamos dar uma olhada na introdução detalhada do filme fino de polissilício Bateria solar de alta tensão.

• Transformado em valiosa bateria solar de alta tensão.

• A eficiência de conversão das baterias solares de alta tensão é melhorada.

Transformado em valiosa bateria solar de alta tensão

O silício cristalino usual Bateria solar de alta tensão é feito em um wafer de silício de alta qualidade com espessura de 350-450 μm, que é serrado a partir de um lingote de silício puxado ou fundido.Portanto, mais material de silício é consumido.Para economizar materiais, filmes de polissilício foram depositados em substratos baratos desde meados da década de 1970.No entanto, devido ao tamanho do grão do filme de silício crescido, um valioso Bateria de lítio de alta tensão não poderia ser produzido.Para obter filmes finos com grãos grandes, as pessoas não pararam de pesquisar e propuseram diversos métodos.Atualmente, os métodos de deposição química de vapor são usados ​​​​principalmente para preparar células de película fina de silício policristalino, incluindo processos de deposição química de vapor de baixa pressão (LPCVD) e deposição química de vapor aprimorada por plasma (PECVD).Além disso, métodos de epitaxia em fase líquida (LPPE) e deposição por pulverização catódica também podem ser usados ​​para preparar baterias de película fina de silício policristalino.

A eficiência de conversão das baterias solares de alta tensão é melhorada

A deposição química de vapor usa principalmente SiH2Cl2, SiHCl3, Sicl4 ou SiH4 como gás de reação, reage em uma determinada atmosfera protetora para formar átomos de silício e os deposita no substrato aquecido.O material do substrato é geralmente Si, SiO2, Si3N4, etc. No entanto, estudos descobriram que é difícil formar grãos maiores em substratos sem silício e é fácil formar vazios entre os grãos.A maneira de resolver este problema é usar LPCVD para depositar primeiro uma fina camada da camada de silício amorfo no substrato e depois recozer esta camada de o camada de silício amorfo para obter grãos maiores.Uma espessa película de polissilício é então depositada sobre esta semente.Portanto, a tecnologia de recristalização é sem dúvida um elo muito importante.As tecnologias utilizadas atualmente incluem principalmente cristalização em fase sólida e recristalização por fusão em zona média.Além do processo de recristalização, são utilizadas baterias de película fina de silício policristalino.Além disso, são adotadas quase todas as tecnologias de preparação de baterias solares de Alta Tensão de silício monocristalino, para que a eficiência de conversão do Alta voltagem bateria solar produzido desta forma é significativamente melhorado.

O princípio do método de epitaxia em fase líquida (LPE) é derreter o silício na matriz e diminuir a temperatura para precipitar um filme de silício.O Centro de Tecnologia de Desenvolvimento Optoeletrônico da China usa epitaxia de fase líquida para cultivar grãos de silício em pastilhas de silício de grau metalúrgico.E projetou um novo tipo de Bateria solar de alta tensão semelhante à bateria solar de alta tensão de filme fino de silício cristalino, chamada de 'grão de silício' Armazenamento de energia LFP.No entanto, os relatórios de desempenho ainda não foram vistos.

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